材料 · 半导体
每一颗芯片的背后，都是一场对「零杂质」的极限追求
手机里的芯片、电动车里的电池、显示屏上的像素——都要求原材料的纯净度达到 ppb 甚至 ppq 级别。任何一颗看不见的金属离子、一滴未知的有机杂质，都可能让整片晶圆报废。质谱在纳米级洁净世界里当「杂质侦探」，为国产半导体和先进材料保驾护航。
ppq
超痕量金属检出
<10⁸
atoms/cm² 表面沾污
SEMI
Grade 4/5 高纯试剂
目标客户
半导体制造 Fab
产线在线质控、失效分析、先进制程管控
电子化学品供应商
高纯试剂出厂放行、SEMI 等级验证
新材料研发机构
靶材、前驱体、光刻胶开发与工艺研究
应用场景
高纯电子化学品杂质分析
电子级双氧水、氢氟酸、硝酸、TMAH、PGMEA、NMP、IPA 等湿制程试剂杂质管控，分为无机金属/非金属痕量杂质与微量有机杂质、降解产物、AMC 前驱物两类指标。杂质超标会造成晶圆表面金属沾污、薄膜缺陷、器件漏电与良率损失。 常规单四极杆 ICP-MS：进厂原料初筛、ppb 级指标筛查。 Orbitrap：不明析出物非靶向定性与结构解析。
- SEMI Grade 4/5
- ppq 级检出限
- 湿制程试剂
- AMC 前驱物
生活中的质谱
高纯电子化学品
手机越做越薄、越用越快的前提
芯片制程越先进，对清洗与蚀刻试剂的纯度要求越苛刻。质谱能在万亿分之一量级上确认金属杂质含量，这是先进制程稳定量产的前置条件。
背后的质谱技术
ppt 级杂质控制痕量金属批次一致性进料验收
表面沾污分析
一粒看不见的颗粒，报废一整片晶圆
晶圆表面的污染物往往只有头发丝的万分之一大小，肉眼与常规检查都无从察觉。质谱可定位并识别这些沾污的成分，把良率损失追溯到具体环节。
背后的质谱技术
失效分析成分识别良率溯源工艺改进
光刻材料品控
决定屏幕与影像清晰度的光刻胶
光刻胶决定了芯片上的线条能画到多细，配方中微量组分的波动会直接反映在成像质量上。质谱用于监控这些关键组分，保证一批批材料表现一致。
背后的质谱技术
配方组分监控光敏组分稳定性研究批间一致
